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2012年3月
成果発表
♦ 諏訪(2008修士)、藤田(2010修士)らのダイヤモンドへのSドープに関する研究成果が国際学術誌に掲載されました。

2012年2月
受賞
♦ 森久(2009年修士)、佐々木(2011修士)らのDLC薄膜合成に関する発表論文「高周波バイアススパッタにおけるDLC薄膜/基材界面の構造変化と耐磨耗特性」に対して、(社) 表面技術協会より 平成24年度 論文賞を受賞いたしました。

2012年2月
受賞
♦ 野瀬助教が「気相合成プロセスを用いた炭素系薄膜材料の表面、界面制御に関する研究」に関して、(社) 表面技術協会より平成24年度 進歩賞を受賞いたしました。

2012年1月
成果発表
♦ 鈴木(修士課程2年)らの透明導電膜に関する研究成果が国際学術誌に掲載されました。

2011年11月
成果発表
♦ 藤田(2010修士)らのダイヤモンドからの電子放出に関する研究成果が国際学術誌に掲載されました。

本研究室ではダイヤモンドを中心とした炭素系材料および、無機物全般の薄膜合成・物性制御に関する研究を行っております。具体的にはプラズマを用いた化学気相合成(Chemical Vapor Deposition: CVD)、物理気相合成(Physical Vapor Deposition: PVD)法を通じて、通常の反応では合成することが困難な物質を作り出し、また、それらの性質を自在に制御することを目標としています。

その希少性から宝石として珍重されるダイヤモンドは、硬度や化学的安定性といった特異な性質を有し、重要な工業材料の一つです。例えば、切削工具の表面コーティングや携帯電話に欠かせない表面伝導波デバイスはダイヤモンドの硬度を直接用いた応用例です。これらに加え、特異な電気・光学的性質に基づいた、高温・高出力にも対応可能な電子デバイスやコンパクトで鋭敏な生体・化学センサーといった応用が期待されています。

しかしながら、天然の存在比が少ない、物性が発現しない、といった事実は、それらの物質合成や物性発現が極めて特殊な環境においてのみ進行することを意味します。ダイヤモンドが地中深くの高温高圧状態においてのみ生成することはこの端的な証拠であり、常圧以下の気相合成におけるメカニズムには未知の領域が広がっています。つまり、こうした物質を人工的に作り出す方法論(プロセス工学)は、基礎学術における大きな課題の一つであると言えます。

私たちの研究グループでは、固体、液体、気体に続く、物質の第四状態とも呼ばれる、高エネルギーのイオンと電子からなるプラズマ状態を用いた新たな材料合成プロセスを研究対象としています。プラズマプロセスにおける炭素系材料の薄膜合成メカニズムを明らかにし、安価に高品質な無機物合成を実現することを目標に日々の研究に取り組んでいます。